• 345 Relief Cream Mask [4ea]
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Dr. Althea

345 Relief Cream Mask [4ea]

€4,80
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GTIN: 8809447256290

345 Relief Cream Mask es una mascarilla facial de tejido formulada para calmar la piel sensibilizada, hidratar intensamente y ayudar a mejorar el aspecto de la piel con imperfecciones o marcas post-acné. Su esencia cremosa combina una selección de ingredientes calmantes, nutritivos y reparadores para aportar confort inmediato a la piel y favorecer su recuperación.

La fórmula incorpora 30% de agua de hoja de árbol de té y 3 ingredientes derivados de la Centella Asiática, ayudando a reducir la sensación de irritación, aliviar el enrojecimiento y reforzar la piel alterada o desequilibrada. Además, su tejido de celulosa vegana de alta adherencia facilita una mejor adaptación al rostro y una absorción rápida de los activos.

Es una mascarilla ideal para pieles que necesitan un cuidado calmante e hidratante intensivo, especialmente cuando la piel se encuentra reactiva, deshidratada o con molestias tras brotes.

Ingredientes clave y beneficios:

• 30% Tea Tree Leaf Water: ayuda a calmar la piel y a mejorar el aspecto de las imperfecciones.
• 3 ingredientes derivados de la Centella Asiática: ayudan a reparar, calmar y fortalecer la piel sensibilizada.
• Complejo calmante, nutritivo y reparador: ayuda a aliviar la piel alterada y mantenerla hidratada y confortable.
• Mascarilla de celulosa vegana: se adapta bien al rostro y favorece la absorción de la esencia.

Ingredientes (INCI)

Water, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Glycine Soja (Soybean) Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract.

Los ingredientes pueden estar sujetos a cambios a discreción del fabricante. Para una lista lo más completa y actualizada posible de los ingredientes, consulte el envase del producto.

345 Relief Cream Mask [4ea]
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